放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成

著者

• 庭野, 道夫 ニワノ, ミチオ

書誌事項

放射光励起ガスソースCVDによる高誘電体薄膜の低温形成

庭野道夫研究代表

（科学研究費補助金(一般研究(B))研究成果報告書, 平成5年度）

[庭野道夫], 1994.3

タイトル別名

平成5年度科学研究費補助金一般研究(B)研究成果報告書(課題番号03452149)

タイトル読み

ホウシャコウ レイキ ガスソース CVD ニヨル コウユウデンタイ ハクマク ノ テイオン ケイセイ

• NII書誌ID(NCID): BB10956681
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: engjpn
• 出版地: [仙台]
• ページ数/冊数: 1冊
• 大きさ: 30cm
• 親書誌ID:
  • BN0345591X