Studies on plasma etching process of low dielectrics for fine pattern profile control with less damage
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Studies on plasma etching process of low dielectrics for fine pattern profile control with less damage
[s.n.], [2012]
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低誘電率材料の微細パターン制御および低ダメージプラズマエッチングプロセスに関する研究
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注記
Thesis (Ph.D.)--Nagoya University. Graduate School of Engineering, 2012
Kind of academic degree: 博士(工学)
Date degree granted: 2012-03-26
Report number: 甲第9602号
Diploma number: 工博第2517号