有機シリコン化合物を用いたプラズマCVDによる高分子基板へのシリカ膜形成に関する研究

書誌事項

有機シリコン化合物を用いたプラズマCVDによる高分子基板へのシリカ膜形成に関する研究

手嶋勝弥 [著]

[出版者不明], [2003]

タイトル別名

有機シリコン化合物を用いたプラズマCVDによる高分子基板へのシリカ膜形成に関する研究

タイトル読み

ユウキ シリコン カゴウブツ オ モチイタ プラズマ CVD ニヨル コウブンシ キバン エノ シリカマク ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ

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注記

名古屋大学大学院工学研究科2002年度博士論文

学位の種類: 博士(工学)

学位授与年月日: 2003-03-25

報告番号: 甲第5884号

学位記番号: 工博第1768号

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BB13690070
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    [出版地不明]
  • ページ数/冊数
    217p
  • 大きさ
    30cm
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