有機シリコン化合物を用いたプラズマCVDによる高分子基板へのシリカ膜形成に関する研究

Bibliographic Information

有機シリコン化合物を用いたプラズマCVDによる高分子基板へのシリカ膜形成に関する研究

手嶋勝弥 [著]

[出版者不明], [2003]

Other Title

有機シリコン化合物を用いたプラズマCVDによる高分子基板へのシリカ膜形成に関する研究

Title Transcription

ユウキ シリコン カゴウブツ オ モチイタ プラズマ CVD ニヨル コウブンシ キバン エノ シリカマク ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ

Note

名古屋大学大学院工学研究科2002年度博士論文

学位の種類: 博士(工学)

学位授与年月日: 2003-03-25

報告番号: 甲第5884号

学位記番号: 工博第1768号

Details
  • NCID
    BB13690070
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    [出版地不明]
  • Pages/Volumes
    217p
  • Size
    30cm
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