Si(100)表面上ラジカル窒化膜の形成過程と電気的特性に関する研究
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書誌事項
Si(100)表面上ラジカル窒化膜の形成過程と電気的特性に関する研究
[出版者不明], [2001]
- タイトル別名
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Study on nitride film formation processes and electric properties on Si(100) by radical nitrogen
- タイトル読み
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Si(100)ヒョウメンジョウ ラジカル チッカマク ノ ケイセイ カテイ ト デンキテキ トクセイ ニ カンスル ケンキュウ
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注記
名古屋大学大学院工学研究科2000年度博士論文
学位の種類: 博士(工学)
学位授与年月日: 2001-03-26
報告番号: 甲第5075号
学位記番号: 工博第1530号