走査型トンネル顕微鏡を用いた極薄シリコン酸化膜の形成及び劣化に関する研究

著者

• 大毛利, 健治 オオモリ, ケンジ

書誌事項

走査型トンネル顕微鏡を用いた極薄シリコン酸化膜の形成及び劣化に関する研究

大毛利健治 [著]

[出版者不明], [2000]

タイトル別名

Study on formation and degradation of ultra-thin SiO[2] films using scanning tunneling microscopy

タイトル読み

ソウサガタ トンネル ケンビキョウ オ モチイタ ゴクウス シリコン サンカマク ノ ケイセイ オヨビ レッカ ニ カンスル ケンキュウ

注記

[2]は下つき文字

名古屋大学大学院工学研究科1999年度博士論文

学位の種類: 博士 (工学)

学位授与年月日: 2000-03-27

報告番号: 甲第4710号

• NII書誌ID(NCID): BB13928285
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: [出版地不明]
• ページ数/冊数: 139p.
• 大きさ: 30cm