触媒CVD(Cat‐CVD)の新展開 : ラジカルを用いる新プロセス技術
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触媒CVD(Cat‐CVD)の新展開 : ラジカルを用いる新プロセス技術
（CMCテクニカルライブラリー, 481 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ）
シーエムシー出版, 2013.11
普及版
- タイトル別名
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Recent developments of catalytic CVD (hot‐wire CVD) : a new radical‐based processing technology
- タイトル読み
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ショクバイ CVD Cat‐CVD ノ シンテンカイ : ラジカル オ モチイル シン プロセス ギジュツ
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注記
文献: 章末
2008年の普及版
内容説明・目次
目次
- 総論 Ｃａｔ‐ＣＶＤ法の誕生、期待とその課題（Ｃａｔ‐ＣＶＤ法の誕生；Ｃａｔ‐ＣＶＤ膜の特徴 ほか）
- 第１章 基礎編（低温成膜の物理とＣａｔ‐ＣＶＤ—フィラメント表面での化学反応の評価；気相中のラジカル種の定量 ほか）
- 第２章 Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置（大型Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置；簡易型Ｃａｔ‐ＣＶＤ装置 ほか）
- 第３章 応用編（ＳｉＮ—ＬＳＩトランジスターへの応用；レジストエッチング—水素ラジカルによるレジスト除去 ほか）
- 第４章 材料各論（アモルファスおよび微結晶Ｓｉ；エピタキシャルＳｉＣ ほか）
「BOOKデータベース」 より