Low temperature plasma technology : methods and applications

著者

• Chu, Paul K.
• Lu, XinPei

書誌事項

Low temperature plasma technology : methods and applications

edited by Paul K. Chu, XinPei Lu

CRC Press, c2014

注記

Includes bibliographical references (p. 464-473) and index

• NII書誌ID(NCID): BB14148157
• ISBN:
  • 9781466509900
• LCCN: 2013001659
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Boca Raton
• ページ数/冊数: xii, 481 p.
• 大きさ: 27 cm
• 分類:
  • LCC : QC718.5.L6
  • DC23 : 621.5/6
• 件名:
  • LCSH : Low temperature plasmas
  • LCSH : Low temperature plasmas -- Industrial applications
  • LCSH : Low temperature plasmas -- Scientific applications
  • FREE : Science / Chemistry / Physical & Theoretical bisacsh
  • FREE : Science / Physics bisacsh
  • FREE : Technology & Engieering / Material Science bisacsh