Siのエピタキシャル気相成長 : 付, その解析法の化合物半導体への応用

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Siのエピタキシャル気相成長 : 付, その解析法の化合物半導体への応用

春日正伸 [著]

[出版者不明], [1971]

Title Transcription

Si ノ エピタキシャル キソウ セイチョウ : フ, ソノ カイセキホウ ノ カゴウブツ ハンドウタイ エノ オウヨウ

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Note

タイトルは表紙による

名古屋大学1970年度博士論文

学位の種類: 工学博士

学位授与年月日: 1971-03-08

報告番号: 甲第595号

Details

  • NCID
    BB15664934
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    [出版地不明]
  • Pages/Volumes
    146p
  • Size
    26cm
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