高周波スパッタリング法によるシリコン半導体用SiO[2]表面保護膜形成に関する研究

著者

• 原, 邦彦 ハラ, クニヒコ

書誌事項

高周波スパッタリング法によるシリコン半導体用SiO[2]表面保護膜形成に関する研究

原邦彦 [著]

[出版者不明], [1984]

タイトル読み

コウシュウハ スパッタリングホウ ニヨル シリコン ハンドウタイヨウ SiO2 ヒョウメン ホゴマク ケイセイ ニ カンスル ケンキュウ

注記

[2]は下付き文字

名古屋大学大学院工学研究科1984年度博士論文

学位の種類: 工学博士

学位授与年月日: 1984-07-05

報告番号: 乙第2650号

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB15867410
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: [出版地不明]
• ページ数/冊数: 125p
• 大きさ: 31cm