N-チャネル・MOS(Metal Oxide Semiconductor)の高性能化プロセスに関する研究

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Bibliographic Information

N-チャネル・MOS(Metal Oxide Semiconductor)の高性能化プロセスに関する研究

橋本哲一 [著]

[出版者不明], [1982]

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N-チャネル・MOS(Metal Oxide Semiconductor)の高性能化プロセスに関する研究

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N-チャネル・MOS(Metal Oxide Semiconductor)ノ コウセイノウカ プロセス ニ カンスル ケンキュウ

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名古屋大学大学院工学研究科1982年度博士論文

学位の種類: 工学博士

学位授与年月日: 1982-05-15

報告番号: 乙第2163号

Details

  • NCID
    BB16052988
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    [出版地不明]
  • Pages/Volumes
    ii, 165p
  • Size
    31cm
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