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ガス供給システム

半導体基盤技術研究会編

(Ultra clean technology, . LSI製造におけるプロセス高性能化技術 / 半導体基盤技術研究会編||LSI セイゾウ ニ オケル プロセス コウセイノウカ ギジュツ ; 1)

リアライズ社, 1989.3

タイトル読み

ガス キョウキュウ システム

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注記

監修: 大見忠弘, 新田雄久

参考文献: 各章末にあり

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BB16173734
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    224p
  • 大きさ
    27cm
  • 分類
  • 件名
  • 親書誌ID
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