A production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment

著者

• Russell, T. J.
• Maxwell, D. A.

書誌事項

A production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment

T.J. Russell, D.A. Maxwell

（NBS special publication, 400-51 . Semiconductor measurement technology）

U.S. G.P.O., 1979

電子リソースにアクセスする 全2件

• A production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment / T. J. Russell, D. A. Maxwell ; sponsored by the

  1979

  HathiTrust

  

• A production-compatible microelectronic test pattern for evaluating photomask misalignment / T. J. Russell, D. A. Maxwell ; sponsored by the (no.400:51)

  1979

  HathiTrust

  

注記

Includes bibliographical references

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB18861104
• LCCN: 79000230
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Washington
• ページ数/冊数: iii, 28 p.
• 大きさ: 26 cm
• 分類:
  • LCC : QC100
  • LCC : TK7874
  • DC : 602/.1 s
  • DC : 621.381/73/028
• 件名:
  • LCSH : Integrated circuits -- Masks -- Testing
• 親書誌ID:
  • BA0011083X