Development of hydrogen and hydroxyl contamination in thin silicon dioxide thermal films

著者

    • Mayo, Santos
    • Evans, William H.

書誌事項

Development of hydrogen and hydroxyl contamination in thin silicon dioxide thermal films

Santos Mayo and William H. Evans

（NBSIR, 78-1558）

U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards, 1979

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注記

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  • NBSIR

    U.S. Dept. of Commerce, National Bureau of Standards

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BB19067733
  • 出版国コード
    us
  • タイトル言語コード
    eng
  • 本文言語コード
    eng
  • 出版地
    [Washington, D.C.]
  • ページ数/冊数
    iv, 34 p.
  • 大きさ
    27 cm
  • 親書誌ID
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