フォトレジスト材料開発の新展開

著者

• 上田, 充 ウエダ, ミツル

書誌事項

フォトレジスト材料開発の新展開

上田充監修

（CMCテクニカルライブラリー, 562 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ）

シーエムシー出版, 2015.11

普及版

タイトル別名

New trends of photoresists

タイトル読み

フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ

注記

2009年刊の普及版

文献: 各章末

内容説明・目次

目次

• リソグラフィ技術の概要
• 光化学反応の基礎
• 光酸発生剤
• 従来型フォトレジスト—ｇ，ｉ線ノボラック系レジストを中心にして
• ＫｒＦレジスト
• ＡｒＦレジスト
• ＡｒＦ液浸用レジスト
• ダブルパターニング用材料
• ＥＵＶレジスト
• 電子線レジスト
• 分子レジスト
• 反射防止材料
• ＵＶナノインプリント用材料
• ブロック共重合体リソグラフィ

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BB19937937
• ISBN:
  • 9784781310398
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: vii, 317p
• 大きさ: 26cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC9 : 549.7
• 件名:
  • BSH : リソグラフィー
  • BSH : 感光性樹脂
• 親書誌ID:
  • BA49949541