フォトレジスト材料開発の新展開

Author(s)

• 上田, 充 ウエダ, ミツル

Bibliographic Information

フォトレジスト材料開発の新展開

上田充監修

（CMCテクニカルライブラリー, 562 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ）

シーエムシー出版, 2015.11

普及版

Other Title

New trends of photoresists

Title Transcription

フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ノ シンテンカイ

Note

2009年刊の普及版

文献: 各章末

Description and Table of Contents

Table of Contents

• リソグラフィ技術の概要
• 光化学反応の基礎
• 光酸発生剤
• 従来型フォトレジスト—ｇ，ｉ線ノボラック系レジストを中心にして
• ＫｒＦレジスト
• ＡｒＦレジスト
• ＡｒＦ液浸用レジスト
• ダブルパターニング用材料
• ＥＵＶレジスト
• 電子線レジスト
• 分子レジスト
• 反射防止材料
• ＵＶナノインプリント用材料
• ブロック共重合体リソグラフィ

by "BOOK database"

Details

• NCID: BB19937937
• ISBN:
  • 9784781310398
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Place of Publication: 東京
• Pages/Volumes: vii, 317p
• Size: 26cm
• Classification:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC9 : 549.7
• Subject Headings:
  • BSH : リソグラフィー
  • BSH : 感光性樹脂
• Parent Bibliography ID:
  • BA49949541