最新ガスバリア薄膜技術 : ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて

著者
書誌事項

最新ガスバリア薄膜技術 : ハイグレードガスバリアフィルムの実用化に向けて

中山弘, 小川倉一監修

(CMCテクニカルライブラリー, 610 . エレクトロニクスシリーズ||エレクトロニクス シリーズ)

シーエムシー出版, 2017.4

普及版

タイトル別名

Advanced thin‐film processes for gas‐barrier films : toward the industrialization of high‐grade gas‐barrier films for electronics

タイトル読み

サイシン ガスバリア ハクマク ギジュツ : ハイ グレード ガスバリア フィルム ノ ジツヨウカ ニ ムケテ

注記

2011年刊の普及版

文献あり

内容説明・目次

目次

  • 第1編 ガスバリア薄膜技術(ガスバリア薄膜技術の基礎;低温真空成膜技術;高速真空成膜技術;真空ロールツーロール成膜技術)
  • 第2編 ガスバリアフィルム評価技術と高機能ベースフィルム(ガスバリア性評価技術;エレクトロニクス用プラスチックフィルム;ハイガスバリア性達成への技術開発例と課題)

「BOOKデータベース」 より

関連文献: 1件中  1-1を表示
詳細情報
  • NII書誌ID(NCID)
    BB23415695
  • ISBN
    • 9784781311968
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    vii, 232p
  • 大きさ
    26cm
  • 分類
  • 件名
  • 親書誌ID
ページトップへ