真空紫外光励起化学反応による半導体表面清浄化プロセスの開発

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真空紫外光励起化学反応による半導体表面清浄化プロセスの開発

研究代表者 広瀬全孝

（科学研究費補助金(試験研究1)研究成果報告書, 昭和61年度）

[広瀬全孝], 1987.3

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シンクウ シガイコウ レイキ カガク ハンノウ ニ ヨル ハンドウタイ ヒョウメン セイジョウカ プロセス ノ カイハツ

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研究課題番号: 59850052

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Details

  • NCID
    BB23500127
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [東広島]
  • Pages/Volumes
    vi, 68p
  • Size
    26cm
  • Parent Bibliography ID
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