薄膜パターン・マスクを用いない新しいX線縮小転写露光装置の試作

Author(s)

• 松村, 英樹 マツムラ, ヒデキ

Bibliographic Information

薄膜パターン・マスクを用いない新しいX線縮小転写露光装置の試作

研究代表者 松村英樹

（科学研究費補助金(試験研究2)研究成果報告書, 昭和61年度）

[松村英樹], 1987.3

Title Transcription

ハクマク パターン マスク オ モチイナイ アタラシイ Xセン シュクショウ テンシャ ロコウ ソウチ ノ シサク

Note

研究課題番号: 60850069

Details

• NCID: BB23510685
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Place of Publication: [東広島]
• Pages/Volumes: 26p
• Size: 26cm
• Parent Bibliography ID:
  • BA31269048