イオン照射による薄膜用基板の表面制御に関する研究

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イオン照射による薄膜用基板の表面制御に関する研究

研究代表者 森勇藏

（科学研究費補助金(一般研究(B))研究成果報告書, ; 平成6年度）

大阪大学工学部, 1995.4

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イオン ショウシャ ニ ヨル ハクマクヨウ キバン ノ ヒョウメン セイギョ ニ カンスル ケンキュウ

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[課題番号]: 05452126

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Details

  • NCID
    BB24112247
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    [吹田]
  • Pages/Volumes
    1 冊
  • Size
    30 cm
  • Parent Bibliography ID
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