Atomic layer deposition for semiconductors
著者
書誌事項
Atomic layer deposition for semiconductors
Springer, 2014
- : softcover
大学図書館所蔵 全1件
  青森
  岩手
  宮城
  秋田
  山形
  福島
  茨城
  栃木
  群馬
  埼玉
  千葉
  東京
  神奈川
  新潟
  富山
  石川
  福井
  山梨
  長野
  岐阜
  静岡
  愛知
  三重
  滋賀
  京都
  大阪
  兵庫
  奈良
  和歌山
  鳥取
  島根
  岡山
  広島
  山口
  徳島
  香川
  愛媛
  高知
  福岡
  佐賀
  長崎
  熊本
  大分
  宮崎
  鹿児島
  沖縄
  韓国
  中国
  タイ
  イギリス
  ドイツ
  スイス
  フランス
  ベルギー
  オランダ
  スウェーデン
  ノルウェー
  アメリカ
注記
"Softcover reprint of the hardcover 1st edition 2014"--T.p. verso
Includes bibliographical references and index
内容説明・目次
内容説明
Offering thorough coverage of atomic layer deposition (ALD), this book moves from basic chemistry of ALD and modeling of processes to examine ALD in memory, logic devices and machines. Reviews history, operating principles and ALD processes for each device.
目次
- I.Introduction Chapter 1. Introduction
- Cheol Seong Hwang and Cha Young Yoo (Seoul National University and Samsung) II.Fundamentals Chapter 2 . ALD Precursors and Reaction mechanism
- Roy Gordon (Harvard) Chapter 3 . ALD simulations
- Simon Elliott (Tyndall) III.ALD for memory devices Chapter 4 . ALD for mass-production memories (DRAM and Flash)
- Cheol Seong Hwang, Seong Keun Kim, and Sang Woon Lee (SNU) III-2. ALD for emerging memories Chapter 5 . PcRAM
- Mikko Ritala and Simone Raoux (Helsinki and T. J. Watson IBM) Chapter 6 .FeRAM
- Susanne Hoffmann and Takayuki Watanabe (Juelich and Canon) IV.ALD for logic devices Chapter 7.Front end of the line process
- Jeong Hwan Han, Moonju Cho, Annelies Delabie, Tae Joo Park, and Cheol Seong Hwang Chapter 8. Back end of the line
- Hyung Joon Kim, Han-Bo-Ram Lee, and Soohyun Kim (Yonsei and Youngnam University) V.ALD machines Chapter 9. Equipment for Atomic Layer Deposition for Semiconductor Manufacturing
- Schubert Chu
「Nielsen BookData」 より