最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

Bibliographic Information

最新フォトレジスト材料開発とプロセス最適化技術

河合晃監修

(エレクトロニクスシリーズ)

シーエムシー出版, 2017.9

Other Title

Advanced technologies for functional resist materials and process optimization

High technology information

Title Transcription

サイシン フォトレジスト ザイリョウ カイハツ ト プロセス サイテキカ ギジュツ

Available at  / 5 libraries

Note

文献: 各章末

Description and Table of Contents

Table of Contents

  • 第1編 総論
  • 第2編 フォトレジスト材料の開発
  • 第3編 フォトレジスト特性の最適化と周辺技術
  • 第4編 材料解析・評価
  • 第5編 応用展開
  • 第6編 レジスト処理装置

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Details

  • NCID
    BB24934053
  • ISBN
    • 9784781312637
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    viii, 320p
  • Size
    26cm
  • Parent Bibliography ID
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