水素終端シリコン表面における低温ヘテロエピタキシー
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水素終端シリコン表面における低温ヘテロエピタキシー
(科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書, ; 平成6年度~平成8年度)
大阪大学工学部, 1997.3
- タイトル読み
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スイソ シュウタン シリコン ヒョウメン ニ オケル テイオン ヘテロ エピタキシー
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注記
課題番号: 06402025