水素終端シリコン表面における低温ヘテロエピタキシー

Author(s)

• 尾浦, 憲治郎 オウラ, ケンジロウ

Bibliographic Information

水素終端シリコン表面における低温ヘテロエピタキシー

研究代表者 尾浦憲治郎

（科学研究費補助金(基盤研究(A)(2))研究成果報告書, ; 平成6年度～平成8年度）

大阪大学工学部, 1997.3

Title Transcription

スイソ シュウタン シリコン ヒョウメン ニ オケル テイオン ヘテロ エピタキシー

Note

課題番号: 06402025

Details

• NCID: BB26350869
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: eng
• Place of Publication: [吹田]
• Pages/Volumes: 1 冊
• Size: 30 cm
• Parent Bibliography ID:
  • BA30195718