水素終端シリコン表面の原子層酸化の機構と界面構造
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水素終端シリコン表面の原子層酸化の機構と界面構造
（科学研究費補助金(一般研究(B))研究成果報告書, 平成5年度）
[広瀬全孝], 1994.3
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スイソ シュウタン シリコン ヒョウメン ノ ゲンシソウ サンカ ノ キコウ ト カイメン コウゾウ
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注記
研究課題番号: 04452177
研究代表者: 広瀬全孝(広島大学工学部教授)
研究分担者: 宮崎誠一
文献あり
