極微細溝への酸化膜の選択成長法の開発とギガビットメモリ配線への応用

書誌事項

極微細溝への酸化膜の選択成長法の開発とギガビットメモリ配線への応用

研究代表者 広瀬全孝

(科学研究費補助金(試験研究(B)(1))研究成果報告書, 平成6年度)

[広瀬全孝], 1995.3

タイトル読み

ゴクビサイコウ エノ サンカマク ノ センタク セイチョウホウ ノ カイハツ ト ギガビット メモリ ハイセン エノ オウヨウ

大学図書館所蔵 件 / 1

この図書・雑誌をさがす

注記

[研究課題番号: 04555071]

研究代表者: 広瀬全孝(広島大学工学部教授)

研究分担者: 宮崎誠一, 林俊雄, 小谷秀夫

文献あり

課題番号: 04555071(科学研究費助成事業データベースによる)

表紙に課題番号0455071とあり(誤植)

関連文献: 1件中  1-1を表示

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BB27336910
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpneng
  • 出版地
    [東広島]
  • ページ数/冊数
    51p
  • 大きさ
    30cm
  • 親書誌ID
ページトップへ