Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar

著者

• Mes, Peter

書誌事項

Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar

von Peter Mes

C.H. Beck, 2020

5., neubearbeitete Aufl

タイトル別名

PatG, GebrMG

注記

Includes bibliographical references and index

• NII書誌ID(NCID): BC02979962
• ISBN:
  • 9783406735158
• LCCN: 2020408474
• 出版国コード: gw
• タイトル言語コード: ger
• 本文言語コード: ger
• 出版地: München
• ページ数/冊数: xxx, 1807 p.
• 大きさ: 20 cm
• 分類:
  • DC23 : 346.430486
  • LCC : KK2722.3
• 件名:
  • FREE : Deutschland
  • FREE : PatG
  • FREE : Patentanmeldung
  • FREE : Erfindung
  • FREE : Schutzfähigkeit
  • FREE : Patentverletzung
  • FREE : Patentlizenz
  • FREE : PatV
  • FREE : PatKostG
  • FREE : Schutzzertifikat
  • FREE : GebrMG
  • FREE : Recht -- Handelsrecht, Wirtschaftsrecht
  • FREE : Kommentar
  • LCSH : Patent laws and legislation -- Germany
  • LCSH : Design protection -- Germany