Optical and EUV lithography : a modeling perspective

著者

• Erdmann, Andreas

書誌事項

Optical and EUV lithography : a modeling perspective

Andreas Erdmann

SPIE, c2021

• pbk.

注記

Includes bibliographical references and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BC18733338
• ISBN:
  • 9781510639010
• 出版国コード: us
• タイトル言語コード: eng
• 本文言語コード: eng
• 出版地: Bellingham, Wash.
• ページ数/冊数: xxii, 351 p.
• 大きさ: 26 cm
• 件名:
  • LCSH : Photolithography
  • LCSH : Extreme ultraviolet lithography