Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar

著者

• Mes, Peter
• Verhauwen, Axel

書誌事項

Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar

von Peter Mes ; mit einem Beitrag von Axel Verhauwen

C.H. Beck, [2024] , , c2024

6., neubearbeitete Auflage

タイトル別名

PatG, GebrMG

注記

Content Type: text (ncrcontent), Media Type: unmediated (ncrmedia), Carrier Type: volume (ncrcarrier)

Previous edition published: 2020

Includes bibliographical references (pages XXVII-XXXIII) and index

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BD11492434
• ISBN:
  • 9783406825958
• 出版国コード: gw
• タイトル言語コード: ger
• 本文言語コード: ger
• 出版地: München
• ページ数/冊数: XXXIII, 1940 pages
• 大きさ: 20 cm
• 分類:
  • DC23 : 346.430486
  • LCC : KK2722.3
• 件名:
  • LCSH : Patent laws and legislation -- Germany
  • LCSH : Design protection -- Germany