Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar

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Patentgesetz, Gebrauchsmustergesetz : Kommentar

von Peter Mes ; mit einem Beitrag von Axel Verhauwen

C.H. Beck, [2024] , , c2024

6., neubearbeitete Auflage

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PatG, GebrMG

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Content Type: text (ncrcontent), Media Type: unmediated (ncrmedia), Carrier Type: volume (ncrcarrier)

Previous edition published: 2020

Includes bibliographical references (pages XXVII-XXXIII) and index

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