半導体製造における洗浄技術 Semiconductor cleaning technology

著者

• 羽深, 等 ハブカ, ヒトシ

書誌事項

半導体製造における洗浄技術 = Semiconductor cleaning technology

羽深等監修

（エレクトロニクスシリーズ, . High technology information）

シーエムシー出版, 2024.12

タイトル読み

ハンドウタイ セイゾウ ニ オケル センジョウ ギジュツ = Semiconductor cleaning technology

注記

表現種別: テキスト (ncrcontent), 機器種別: 機器不用 (ncrmedia), キャリア種別: 冊子 (ncrcarrier)

文献あり

奥付・背に「T1278」とあり

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BD13927833
• ISBN:
  • 9784781318561
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: v, 232p
• 大きさ: 26cm
• 分類:
  • NDLC : ND371
  • NDC10 : 549.8
• 件名:
  • NDLSH : 半導体
  • NDLSH : 洗浄
• 親書誌ID:
  • BB09843575