Ion implantation and annealing applications, science and technology : contributions from IIT School

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Ion implantation and annealing applications, science and technology : contributions from IIT School

Wilfried Lerch, Michael I. Current, editors

(Topics in applied physics, volume 158)

Springer, [2027] , , c2027

  • edition 2026

タイトル別名

Ion implantation and annealing applications, science and technology : contributions from IIT School, edition 2026

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注記

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BD20951689
  • ISBN
    • 9783032311726
  • 出版国コード
    sz
  • タイトル言語コード
    eng
  • 本文言語コード
    eng
  • 出版地
    Cham
  • ページ数/冊数
    xvi, 776 pages
  • 大きさ
    25 cm
  • 親書誌ID
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