マイクロリソグラフィー : IC,LSIはこうしてつくられる
Author(s)
Bibliographic Information
マイクロリソグラフィー : IC,LSIはこうしてつくられる
(Frontier technology series, [002])
丸善, 1986.10
- Title Transcription
-
マイクロ リソグラフィー : IC LSI ワ コウシテ ツクラレル
Access to Electronic Resource 1 items
-
Limited
Available at 118 libraries
  Aomori
  Iwate
  Miyagi
  Akita
  Yamagata
  Fukushima
  Ibaraki
  Tochigi
  Gunma
  Saitama
  Chiba
  Tokyo
  Kanagawa
  Niigata
  Toyama
  Ishikawa
  Fukui
  Yamanashi
  Nagano
  Gifu
  Shizuoka
  Aichi
  Mie
  Shiga
  Kyoto
  Osaka
  Hyogo
  Nara
  Wakayama
  Tottori
  Shimane
  Okayama
  Hiroshima
  Yamaguchi
  Tokushima
  Kagawa
  Ehime
  Kochi
  Fukuoka
  Saga
  Nagasaki
  Kumamoto
  Oita
  Miyazaki
  Kagoshima
  Okinawa
  Korea
  China
  Thailand
  United Kingdom
  Germany
  Switzerland
  France
  Belgium
  Netherlands
  Sweden
  Norway
  United States of America
Search this Book/Journal
Note
参考書: p115-116
Description and Table of Contents
Description
IC、LSIなどの半導体集積回路を製作するのには、高度な写真製版技術が用いられている。石版印刷から始まったこれらの技術はいまやミクロン単位の微細加工を可能にするものになった。これらの半導体微細加工技術はどのようにして発展してきたのだろうか。また、将来はどのような発展をするのだろうか。これを概観してみるのが本書の目的である。
Table of Contents
- 1 光微細加工のルーツ
- 2 フォトレジストとは何か
- 3 半導体デバイスの微細加工
- 4 半導体微細加工の発展をたどる
- 5 電子線リソグラフィー
- 6 X線リソグラフィー
- 7 深紫外リソグラフィー
- 8 高解像度ネガ型フォトレジスト
- 9 レジストの多層化
- 10 リソグラフィーの将来
by "BOOK database"