LSIプロセス工学

著者

• 右高, 正俊 ミギタカ, マサトシ
• 鈴木, 道夫 スズキ, ミチオ

書誌事項

LSIプロセス工学

右高正俊編著 ; 鈴木道夫[ほか]共著

オーム社, 1988.12

改訂2版

タイトル読み

LSI プロセス コウガク

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• LSIプロセス工学

  1988

  NDLデジタルコレクション

  限定公開

内容説明・目次

内容説明

ＬＳＩプロセスに応用されている物理・化学現象と、実際の装置・設備の両面から詳しく解説し、急速な技術の進歩に即応できる多方面の知識が得られる内容となっています。日進月歩の技術革新に対応して全面改訂！

目次

• １章　概説
• ２章　ＬＳＩ、超ＬＳＩ基本プロセス概要
• ３章　ＬＳＩ基本回路構成
• ４章　ＬＳＩプロセスの基礎
• ５章　リソグラフィ技術と装置
• ６章　ＬＳＩプロセス装置
• ７章　ＬＳＩ、超ＬＳＩプロセス
• ８章　清浄化技術
• ９章　結言

「BOOKデータベース」 より

• NII書誌ID(NCID): BN0296515X
• ISBN:
  • 427403223X
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 12,283p
• 大きさ: 22cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC7 : 549.8
  • NDLC : ND386
• 件名:
  • BSH : 集積回路