超LSIレジストの分子設計

書誌事項

超LSIレジストの分子設計

津田穣著

(表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編, 11)

共立出版, 1990.4

タイトル読み

チョウ LSI レジスト ノ ブンシ セッケイ

大学図書館所蔵 件 / 64

注記

文献: p[110]-113

内容説明・目次

目次

  • 序章 なぜ、レジストの研究をするのか?
  • 第1章 超LSIレジストの要件
  • 第2章 オルソジアゾナフトキノン系フォトレジストの分子設計
  • 第3章 ネガ型レジストの分子設計
  • 第4章 高感度化の分子設計
  • 第5章 ドライ現象のためのレジストの分子設計
  • 第6章 解像力向上技術

「BOOKデータベース」 より

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