超LSIレジストの分子設計
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超LSIレジストの分子設計
(表面・薄膜分子設計シリーズ / 日本表面科学会編, 11)
共立出版, 1990.4
- タイトル読み
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チョウ LSI レジスト ノ ブンシ セッケイ
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注記
文献: p [110]-113
内容説明・目次
目次
- 序章 なぜ、レジストの研究をするのか?
- 第1章 超LSIレジストの要件
- 第2章 オルソジアゾナフトキノン系フォトレジストの分子設計
- 第3章 ネガ型レジストの分子設計
- 第4章 高感度化の分子設計
- 第5章 ドライ現象のためのレジストの分子設計
- 第6章 解像力向上技術
「BOOKデータベース」 より