Bibliographic Information

薄膜成長の話

犬塚直夫, 高井裕司著

(エレクトロニクスと材料 / 犬塚直夫, 伊藤糾次編, 3)

早稲田大学出版部, 1990.6

Title Transcription

ハクマク セイチョウ ノ ハナシ

Access to Electronic Resource 2 items

Available at  / 56 libraries

Note

付録 分析方法一覧:p[145]〜157

Description and Table of Contents

Description

エレクトロニクスにおける重要な材料の1つが薄膜である。厚さ0.001mm以下の薄膜を加工し、さらに別の薄膜を成長させることにより、基本的にはICもLSIも超LSIも作ることができる。薄膜の成長方法と評価方法を新しい観点から分類した本書は、読者が薄膜成長の基本的な現象を理解し、さらに薄膜の新しい可能性を見いだすための手引となろう。

Table of Contents

  • 第1章 薄膜研究の出発
  • 第2章 薄膜の成長(気相から結晶を作る;薄膜の成長)
  • 第3章 薄膜作製法の実際(薄膜の原料気体の準備;成長環境と下地表面)
  • 第4章 薄膜を知る
  • 第5章 薄膜を測る(薄膜は厚い?;薄膜は丈夫?;電気特性を測る)
  • 第6章 薄膜を分析する(薄膜の結晶構造を測る;電子顕微鏡で観察する;電子線で表面の元素と構造を分析する;イオンで界面の構造を解明する;微量不純物を分析する)

by "BOOK database"

Related Books: 1-1 of 1

Details

  • NCID
    BN05190372
  • ISBN
    • 465790325X
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    x,160p
  • Size
    21cm
  • Classification
  • Subject Headings
  • Parent Bibliography ID
Page Top