書誌事項

薄膜成長の話

犬塚直夫, 高井裕司著

(エレクトロニクスと材料 / 犬塚直夫, 伊藤糾次編, 3)

早稲田大学出版部, 1990.6

タイトル読み

ハクマク セイチョウ ノ ハナシ

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注記

付録 分析方法一覧:p[145]〜157

内容説明・目次

内容説明

エレクトロニクスにおける重要な材料の1つが薄膜である。厚さ0.001mm以下の薄膜を加工し、さらに別の薄膜を成長させることにより、基本的にはICもLSIも超LSIも作ることができる。薄膜の成長方法と評価方法を新しい観点から分類した本書は、読者が薄膜成長の基本的な現象を理解し、さらに薄膜の新しい可能性を見いだすための手引となろう。

目次

  • 第1章 薄膜研究の出発
  • 第2章 薄膜の成長(気相から結晶を作る;薄膜の成長)
  • 第3章 薄膜作製法の実際(薄膜の原料気体の準備;成長環境と下地表面)
  • 第4章 薄膜を知る
  • 第5章 薄膜を測る(薄膜は厚い?;薄膜は丈夫?;電気特性を測る)
  • 第6章 薄膜を分析する(薄膜の結晶構造を測る;電子顕微鏡で観察する;電子線で表面の元素と構造を分析する;イオンで界面の構造を解明する;微量不純物を分析する)

「BOOKデータベース」 より

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BN05190372
  • ISBN
    • 465790325X
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    x,160p
  • 大きさ
    21cm
  • 分類
  • 件名
  • 親書誌ID
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