固相界面反応を伴うシリコンヘテロエピタキシャル成長機構の解明

著者

• 安田, 幸夫 ヤスダ, ユキオ

書誌事項

固相界面反応を伴うシリコンヘテロエピタキシャル成長機構の解明

安田幸夫[ほか著]

[出版者不明], 1990.3

タイトル別名

平成元年度科学研究費補助金(一般研究B)研究成果報告書

タイトル読み

コソウ カイメン ハンノウ オ トモナウ シリコン ヘテロ エピタキシャル セイチョウ キコウ ノ カイメイ

注記

課題番号:63460055

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN05948361
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: [名古屋]
• ページ数/冊数: 43p
• 大きさ: 26cm