書誌事項

シリコンにおけるB+及びP+イオンの打込みと評価

(海外技術資料調査集, No.MY-2133(F))

材料技術資料センター, [1991]

タイトル読み

シリコン ニ オケル B + オヨビ P + イオン ノ ウチコミ トヒョウカ

大学図書館所蔵 件 / 1

この図書・雑誌をさがす

関連文献: 1件中  1-1を表示

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BN06039649
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    eng
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    1冊
  • 大きさ
    30cm
  • 親書誌ID
ページトップへ