シリコン系ヘテロデバイス
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シリコン系ヘテロデバイス
丸善, 1991.7
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シリコンケイ ヘテロ デバイス
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内容説明・目次
内容説明
本書は、ヘテロ構造によるＳｉ系デバイスの高性能化を目標に、そのための基礎理論からヘテロ材料・製造プロセス・最新のデバイス特性にいたるまでを詳述したものである。近年の半導体デバイス・集積回路のめざましい進歩は、シリコンに負うところが非常に大きく、その状況は今後も変わらないと考えられ、シリコンの枠内で新しい分野を開拓することが強く望まれている。本書はそのような観点でまとめられた初めてのものであり、Ｓｉ系デバイスの研究者・技術者にとって格好の書である。
目次
- 第１章 シリコン系ヘテロ接合デバイスの意義と研究動向
- 第２章 半導体ヘテロ接合の性質
- 第３章 シリコンバイポーラトランジスタの高速化
- 第４章 シリコンヘテロ材料に要求される性質
- 第５章 ＳｉＣヘテロエミッタ
- 第６章 非晶質半導体系ヘテロエミッタ
- 第７章 シリコン酸化物ヘテロエミッタ
- 第８章 Ｓｉ‐Ｇｅ系ヘテロ構造
- 第９章 バンドギャップ縮小効果と擬似ヘテロ接合デバイス
- 第１０章 新しいヘテロ材料の可能性とその展望
- 第１１章 ＧａＡｓ系ＨＢＴの最近の進歩
「BOOKデータベース」 より