光励起された半導体ー溶液界面を用いる新しいレドックス反応とパターン形成

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光励起された半導体ー溶液界面を用いる新しいレドックス反応とパターン形成

研究代表者藤嶋昭

藤嶋昭, 1992

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ヒカリレイキサレタ ハンドウタイーヨウエキ カイメン オ モチイル アタラシイ レドックス ハンノウ ト パターン ケイセイ

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Note

研究分担者: 馬場凉,加藤民彦,小早川紘一,佐藤祐一[等]

平成3年度科学研究費補助金(試験研究B(1))研究成果報告書(研究課題番号01850182)

Details

  • NCID
    BN08527326
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    engjpn
  • Place of Publication
    [東京]
  • Pages/Volumes
    294p
  • Size
    26cm
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