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デバイスプロセス

河東田隆著

(電子・情報工学講座, 12)

培風館, 1993.1

Other Title

デバイス・プロセス

Title Transcription

デバイス プロセス

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Note

付: 参考文献

Description and Table of Contents

Description

半導体集積回路技術の進展に伴い、大学においてもその基礎教育が重要となっている。本書は、半導体集積回路と光デバイスの製作プロセス技術を中心に、その基礎を分かりやすく解説した教科書である。

Table of Contents

  • 1 主な半導体デハイスの製作プロセス
  • 2 バルク結晶の成長
  • 3 エピタキシャル成長技術
  • 4 ウエハの加工と表面処理
  • 5 絶縁膜の形成
  • 6 不純物拡散とイオン注入
  • 7 微細パターンの形成
  • 8 電極と配線の形成および実装
  • 9 クリーンルームと関連技術
  • 10 電子材料の種類と実用的に使用されるための条件
  • 11 アモルファスシリコン・デバイスの製作プロセス
  • 12 材料・デバイスプロセスにおける評価
  • 13 デバイスの微細化にともなう問題点と新技術
  • 14 量子効果デバイス作製のための新技術

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Details

  • NCID
    BN08542669
  • ISBN
    • 4563033421
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpn
  • Place of Publication
    東京
  • Pages/Volumes
    viii, 228p
  • Size
    22cm
  • Classification
  • Subject Headings
  • Parent Bibliography ID
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