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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現

高橋清 [ほか] 編著

工業調査会, 1994.3

タイトル別名

光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温無損傷化を実現

タイトル読み

ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン・ムソンショウカ オ ジツゲン

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注記

その他の編著者: 松波弘之, 村田好正, 英貢

執筆者: 西澤潤一ほか

章末: 参考文献

内容説明・目次

目次

  • 光励起プロセスの概論
  • 光励起プロセスの基礎
  • 表面反応・気相反応の基礎過程
  • 光励起プロセスによる膜形成の基礎過程
  • 反応の診断・計測
  • 光励起プロセスを用いた新しい製膜プロセス
  • 光励起エッチング反応とその応用
  • 光励起プロセスのデパイスへの応用
  • 光励起プロセスの将来展望

「BOOKデータベース」 より

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BN10527941
  • ISBN
    • 4769311222
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpn
  • 出版地
    東京
  • ページ数/冊数
    266p
  • 大きさ
    21cm
  • 分類
  • 件名
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