光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現
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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温・無損傷化を実現
工業調査会, 1994.3
- タイトル別名
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光励起プロセスの基礎 : プロセスの低温無損傷化を実現
- タイトル読み
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ヒカリ レイキ プロセス ノ キソ : プロセス ノ テイオン・ムソンショウカ オ ジツゲン
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注記
その他の編著者: 松波弘之, 村田好正, 英貢
執筆者: 西澤潤一ほか
章末: 参考文献
内容説明・目次
目次
- 光励起プロセスの概論
- 光励起プロセスの基礎
- 表面反応・気相反応の基礎過程
- 光励起プロセスによる膜形成の基礎過程
- 反応の診断・計測
- 光励起プロセスを用いた新しい製膜プロセス
- 光励起エッチング反応とその応用
- 光励起プロセスのデパイスへの応用
- 光励起プロセスの将来展望
「BOOKデータベース」 より
