シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで

Author(s)

• 谷口, 研二 タニグチ, ケンジ

Bibliographic Information

シリコン熱酸化膜とその界面 : 基礎物性から超LSIへの応用まで

谷口研二 [編]

リアライズ社, 1991.7

Title Transcription

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Note

各章末: 参考文献

• NCID: BN1064502X
• ISBN:
  • 4947655445
• Country Code: ja
• Title Language Code: jpn
• Text Language Code: jpn
• Place of Publication: 東京
• Pages/Volumes: 422p
• Size: 27cm
• Classification:
  • NDC8 : 549.8
  • NDLC : ND371
• Subject Headings:
  • NDLSH : シリコン(半導体)