次世代ULSI製造のための表面反応プロセス

著者

• 菅原, 活郎 スガワラ, カツロウ
• 前田, 和夫 マエダ, カズオ

書誌事項

次世代ULSI製造のための表面反応プロセス

菅原活郎, 前田和夫編集委員

（New trigger series）

サイエンスフォーラム, 1994.6

タイトル読み

ジセダイ ULSI セイゾウ ノ タメ ノ ヒョウメン ハンノウ プロセス

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN10951795
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 305p
• 大きさ: 31cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.7
  • NDLC : ND386
• 件名:
  • NDLSH : 集積回路
• 親書誌ID:
  • BN07247765