高密度プラズマ応用プロセス技術

著者

• 木下, 治久 キノシタ, ハルヒサ

書誌事項

高密度プラズマ応用プロセス技術

木下治久編

リアライズ社, 1993.7

タイトル読み

コウミツド プラズマ オウヨウ プロセス ギジュツ

注記

各章末:参考文献

詳細情報

• NII書誌ID(NCID): BN1152339X
• ISBN:
  • 4947655623
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: 8, 301, 8p
• 大きさ: 27 cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.8
  • NDLC : ND371
• 件名:
  • NDLSH : プラズマ
  • NDLSH : 半導体
  • NDLSH : 薄膜