反応性スパッタリング法による非晶質薄膜の合成及び材料設計
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反応性スパッタリング法による非晶質薄膜の合成及び材料設計
安井至, 1994
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ハンノウセイ スパッタリングホウ ニ ヨル ヒショウシツ ハクマク ノ ゴウセイ オヨビ ザイリョウ セッケイ
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Institute of Industrial Science Library, the University of Tokyo図書
X-08.IIS:科研1993:04-2416711257789
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Note
平成4・5年度科学研究費補助金(一般研究B)研究成果報告書
研究課題番号: 04453063
研究分担者: 宇都野太
Contents of Works
- Preparation of Mo-Si-O thin films by reactive sputtering / F. Utsuno[ほか]
- 反応性スパッタリングによるMo-Si-O薄膜の合成 / 宇都野太
- リアクテイブスパッタリング法によるセラミックス系薄膜の合成 / 宇都野太, 安井至
- Sputtering rate studies on different Mo-Si-targets / Futoshi Utsuno[ほか]
