反応性スパッタリング法による非晶質薄膜の合成及び材料設計

書誌事項

反応性スパッタリング法による非晶質薄膜の合成及び材料設計

研究代表者 安井至

安井至, 1994

タイトル読み

ハンノウセイ スパッタリングホウ ニ ヨル ヒショウシツ ハクマク ノ ゴウセイ オヨビ ザイリョウ セッケイ

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注記

平成4・5年度科学研究費補助金(一般研究B)研究成果報告書

研究課題番号: 04453063

研究分担者: 宇都野太

収録内容

  • Preparation of Mo-Si-O thin films by reactive sputtering / F. Utsuno[ほか]
  • 反応性スパッタリングによるMo-Si-O薄膜の合成 / 宇都野太
  • リアクテイブスパッタリング法によるセラミックス系薄膜の合成 / 宇都野太, 安井至
  • Sputtering rate studies on different Mo-Si-targets / Futoshi Utsuno[ほか]

詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BN11884897
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpneng
  • 出版地
    [東京]
  • ページ数/冊数
    32p
  • 大きさ
    26cm
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