超LSIプロセス制御工学

著者

• 津屋, 英樹 ツヤ, ヒデキ

書誌事項

超LSIプロセス制御工学

津屋英樹著

丸善, 1995.3

タイトル読み

チョウ LSI プロセス セイギョ コウガク

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• 超LSIプロセス制御工学

  1995

  NDLデジタルコレクション

  限定公開

注記

参考文献: 各章末

内容説明・目次

内容説明

本書は、材料・プロセス技術を欠陥制御という観点から述べたものである。欠陥の本質をおさえた上で、基本的にどんな問題が潜んでいるのか、これまではどう克服されてきたか、さらに今後どんな課題があるのかを多くの具体例を示しながら解説している。また、ＬＳＩに関わる各技術を個々のものとしてではなくスルー技術として捉えており、巨視点な思考の必要性を示唆している。材料・プロセス・デバイスの各分野、さらに量産現場に携わる技術者・研究者にとって必読の書である。

目次

• デバイス特性と結晶欠陥
• デバイス構造に起因する欠陥とその制御
• プロセスに起因する欠陥とその制御
• シルコン結晶基板に起因する欠陥とその制御
• ゲッタリング技術
• シリコン結晶の不純物・欠陥測定評価技術
• シリコン集積回路デバイスのさらなる発展へ向けて

「BOOKデータベース」 より

• NII書誌ID(NCID): BN12446705
• ISBN:
  • 4621040472
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpn
• 出版地: 東京
• ページ数/冊数: ix, 313p
• 大きさ: 22cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.7
  • NDC7 : 549.8
• 件名:
  • BSH : 集積回路