電子ビーム描画法を用いたin-situシリコン選択エピタキシャルSOI構造の研究

書誌事項

電子ビーム描画法を用いたin-situシリコン選択エピタキシャルSOI構造の研究

研究代表者:石田誠

(科学研究費補助金(一般研究(B))研究成果報告書, 平成4年度)

石田誠, 1993.3

タイトル別名

平成4年度科学研究費補助金(一般研究B)研究成果報告書

タイトル読み

デンシ ビーム ビョウガホウ オ モチイタ in-situ シリコン センタク エピタキシャル SOI コウゾウ ノ ケンキュウ

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注記

研究課題番号: 03452155

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詳細情報

  • NII書誌ID(NCID)
    BN13174655
  • 出版国コード
    ja
  • タイトル言語コード
    jpn
  • 本文言語コード
    jpneng
  • 出版地
    [豊橋]
  • ページ数/冊数
    63p
  • 大きさ
    30cm
  • 分類
  • 親書誌ID
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