電子ビーム描画法を用いたin-situシリコン選択エピタキシャルSOI構造の研究

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電子ビーム描画法を用いたin-situシリコン選択エピタキシャルSOI構造の研究

研究代表者:石田誠

（科学研究費補助金(一般研究(B))研究成果報告書, 平成4年度）

石田誠, 1993.3

Other Title

平成4年度科学研究費補助金(一般研究B)研究成果報告書

Title Transcription

デンシ ビーム ビョウガホウ オ モチイタ in-situ シリコン センタク エピタキシャル SOI コウゾウ ノ ケンキュウ

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研究課題番号: 03452155

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Details

  • NCID
    BN13174655
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    jpneng
  • Place of Publication
    [豊橋]
  • Pages/Volumes
    63p
  • Size
    30cm
  • Classification
  • Parent Bibliography ID
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