電子ビーム描画法を用いたin-situシリコン選択エピタキシャルSOI構造の研究

著者

• 石田, 誠 イシダ, マコト

書誌事項

電子ビーム描画法を用いたin-situシリコン選択エピタキシャルSOI構造の研究

研究代表者:石田誠

（科学研究費補助金(一般研究(B))研究成果報告書, 平成4年度）

石田誠, 1993.3

タイトル別名

平成4年度科学研究費補助金(一般研究B)研究成果報告書

タイトル読み

デンシ ビーム ビョウガホウ オ モチイタ in-situ シリコン センタク エピタキシャル SOI コウゾウ ノ ケンキュウ

注記

研究課題番号: 03452155

• NII書誌ID(NCID): BN13174655
• 出版国コード: ja
• タイトル言語コード: jpn
• 本文言語コード: jpneng
• 出版地: [豊橋]
• ページ数/冊数: 63p
• 大きさ: 30cm
• 分類:
  • NDC8 : 549.8
• 親書誌ID:
  • BN0345591X