シリコンCVDプロセスおよびナノクラスター形成に関する化学反応機構の解明

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シリコンCVDプロセスおよびナノクラスター形成に関する化学反応機構の解明

研究代表者 松為宏幸

松為宏幸, 1996.3

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シリコン CVD プロセス オヨビ ナノクラスター ケイセイ ニ カンスル カガク ハンノウ キコウ ノ カイメイ

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Note

平成7年度科学研究費補助金(一般研究A)研究成果報告書

Details

  • NCID
    BN15075144
  • Country Code
    ja
  • Title Language Code
    jpn
  • Text Language Code
    engjpn
  • Place of Publication
    [東京]
  • Pages/Volumes
    1冊
  • Size
    26cm
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