フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える

書誌事項

フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える

田辺功, 竹花洋一, 法元盛久共著

工業調査会, 1996.8

タイトル別名

超LSI、液晶、プリント板を支えるフォトマスク技術のはなし

タイトル読み

フォトマスク ギジュツ ノ ハナシ : チョウLSI エキショウ プリントバン オ ササエル

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注記

参考文献: 各章末

内容説明・目次

内容説明

本書はフォトマスクの全般について解説したものである。単にフォトマスクを紹介することに留まらず、LSIマスクを代表にしたマスク技術の変遷、次世代のマスクおよび今後の展望にも言及した。

目次

  • 第1章 フォトマスクとは
  • 第2章 フォトマスク製造の基本技術
  • 第3章 LSI用フォトマスクの実際
  • 第4章 LCD用フォトマスクの実際
  • 第5章 PWB用フォトマスクの実際
  • 第6章 クリーン化技術
  • 第7章 次世代マスクの技術展望
  • 第8章 今後の展望

「BOOKデータベース」 より

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