フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える
著者
書誌事項
フォトマスク技術のはなし : 超LSI、液晶、プリント板を支える
工業調査会, 1996.8
- タイトル別名
-
超LSI、液晶、プリント板を支えるフォトマスク技術のはなし
- タイトル読み
-
フォトマスク ギジュツ ノ ハナシ : チョウLSI エキショウ プリントバン オ ササエル
大学図書館所蔵 件 / 全50件
-
該当する所蔵館はありません
- すべての絞り込み条件を解除する
この図書・雑誌をさがす
注記
参考文献: 各章末
内容説明・目次
内容説明
本書はフォトマスクの全般について解説したものである。単にフォトマスクを紹介することに留まらず、LSIマスクを代表にしたマスク技術の変遷、次世代のマスクおよび今後の展望にも言及した。
目次
- 第1章 フォトマスクとは
- 第2章 フォトマスク製造の基本技術
- 第3章 LSI用フォトマスクの実際
- 第4章 LCD用フォトマスクの実際
- 第5章 PWB用フォトマスクの実際
- 第6章 クリーン化技術
- 第7章 次世代マスクの技術展望
- 第8章 今後の展望
「BOOKデータベース」 より